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股票代码: 7731.T
上市状态: 上市
国家: 日本
市值: 约1.2万亿日元/80亿美元（2026年6月市值）
年营收: FY2024约7000亿日元（约45亿美元）
AI业务占比: 半导体光刻设备占尼康总营收约15%-20%（估算），属精密设备业务板块
毛利率: 公司整体约40%-42%
净利润: FY2024约200亿日元
官网: 'https://www.nikon.com'
X主页: 'https://x.com/NikonDotCom'
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# 简介
尼康株式会社（Nikon Corporation，东京证券交易所：7731）成立于1917年，总部位于日本东京，是全球知名的光学与精密设备制造商。公司最初以光学镜头起家，后逐步拓展到相机、显微镜、半导体光刻设备、FPD光刻设备等领域。在半导体光刻设备领域，尼康与ASML、佳能并列为全球三大光刻机厂商，是仅次于ASML的DUV光刻设备供应商。

# 业务结构
- **影像业务**：数码相机、镜头、运动相机，约占总营收35%；
- **精密设备**：半导体光刻机、FPD光刻机、显微镜、测量仪器，约占总营收40%；
- **医疗健康**：内窥镜、手术显微镜、细胞培养设备，约占总营收15%；
- **工业计量**：X射线/CT检测系统，约占总营收10%。

# 半导体光刻设备
尼康的半导体光刻设备覆盖：
- **ArF浸没式光刻机**：分辨率≤38nm，用于65nm-7nm制程（Intel主要采用）；
- **ArF干式光刻机**：分辨率≤90nm，用于90nm-65nm制程；
- **KrF光刻机**：分辨率≤130nm，用于0.25μm-0.13μm制程；
- **i-line光刻机**：分辨率≥350nm，用于成熟制程和封装。

尼康与Intel有着长期深度合作关系，Intel是尼康ArF光刻机的最大客户。

# 竞争格局
全球半导体光刻设备市场：
- **ASML**：绝对垄断，EUV市占率100%，高端ArFi市占率超90%；
- **尼康**：ArF浸没式和干式光刻机主要供应商，在DUV高端市场仅次于ASML；
- **佳能**：i-line和KrF光刻机，聚焦成熟制程。

尼康在ArF光刻机领域的技术积累深厚，但受限于EUV技术的缺失，在7nm以下先进制程已无竞争力。

# 关键风险
- 光刻设备业务高度依赖Intel的资本开支周期；
- 与ASML技术差距持续扩大（无EUV、ArFi市占率被ASML挤压）；
- 数码相机市场持续萎缩，影像业务承压。

# 关键人物
- 徳成宗明：社长

# 观点
尼康是全球半导体光刻设备市场的三大玩家之一，在ArF（包括浸没式和干式）光刻机领域具有深厚的技术积累。与佳能不同，尼康能够生产ArF浸没式光刻机（这是仅次于EUV的最先进DUV技术），因此其光刻设备可以用于65nm-7nm制程的芯片制造。Intel是尼康的最大客户，两者的合作关系可以追溯到上世纪80年代。然而，随着ASML在EUV和高端ArFi领域的垄断地位日益巩固，尼康在先进制程光刻市场的份额持续萎缩。在AI算力产业链中，尼康的光刻设备主要用于逻辑芯片（CPU/GPU）和存储芯片的制造，是AI芯片生产的关键设备之一。
