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股票代码: 7751.T
上市状态: 上市
国家: 日本
市值: 约5万亿日元/330亿美元（2026年6月市值）
年营收: FY2024约4.6万亿日元（约300亿美元）
AI业务占比: 半导体光刻设备占佳能总营收约5%-8%（估算），属精密工业设备业务板块
毛利率: 公司整体约45%-48%
净利润: FY2024约2800亿日元
官网: 'https://global.canon'
X主页: 'https://x.com/canonglobal'
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# 简介
佳能株式会社（Canon Inc.，东京证券交易所：7751）成立于1937年，总部位于日本东京，是全球领先的影像与光学技术企业。公司主营业务涵盖数码相机、办公设备、工业设备（含半导体光刻设备）、医疗设备和印刷系统。在半导体光刻设备领域，佳能是全球三大光刻机厂商之一（与ASML、尼康并列），专注于DUV光刻设备中的i-line和KrF（氟化氪）光刻机。

# 业务结构
- **影像业务**：数码相机、摄像机、镜头，约占总营收25%；
- **办公/打印业务**：打印机、复印机、办公解决方案，约占总营收40%；
- **工业设备**：半导体光刻机、FPD（平板显示器）光刻机、工业相机，约占总营收15%；
- **医疗设备**：眼科设备、CT/MRI、超声诊断，约占总营收15%；
- **其他**：约占总营收5%。

# 半导体光刻设备
佳能的半导体光刻设备业务历史悠久，1970年推出日本首台半导体光刻机。与ASML（EUV/DUV全面领先）和尼康（ArF/DUV）不同，佳能专注于：
- **i-line光刻机**：用于成熟制程（≥350nm）、功率半导体、MEMS、封装等领域；
- **KrF光刻机**：用于0.25μm-0.13μm制程；
- **FPD光刻机**：用于平板显示器制造，全球市占率第一。

# 竞争格局
全球半导体光刻设备市场：
- **ASML**：绝对垄断，EUV市占率100%，DUV（ArFi/ArF/KrF）市占率约80%；
- **尼康**：ArF浸没式光刻机、ArF干式、KrF，主要客户为 Intel、三星、台积电（部分）；
- **佳能**：i-line和KrF光刻机，在成熟制程、功率半导体、封装光刻领域具有优势。

# 关键风险
- 光刻设备业务受半导体行业资本开支周期影响大；
- 与ASML技术差距大（佳能无EUV、无高端ArFi）， growth受限；
- 数码相机市场持续萎缩，拖累整体业绩。

# 关键人物
- 御手洗冨士夫：会长
- 小泽秀树：社长

# 观点
佳能是全球光刻设备市场的三大玩家之一，但定位与ASML和尼康明显不同——佳能不涉足EUV和高端ArF浸没式光刻机，而是专注于成熟制程的i-line和KrF光刻机，以及FPD光刻机。在AI算力产业链中，佳能的光刻设备主要用于功率半导体、MEMS传感器、封装等环节的芯片制造，不直接参与先进制程GPU/CPU的生产。虽然技术天花板低于ASML，但佳能在成熟制程光刻领域具有成本优势和稳定的客户基础（功率半导体、汽车电子厂商）。
