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年销售额占比: ASML 子公司，光源系统营收并入 ASML、不单独披露
segment: 光刻设备零部件
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# 产品介绍
Cymer EUV 光源（LPP 激光等离子体方案，液相锡靶）是 ASML EUV 光刻机产生 13.5nm 极紫外光的核心子系统，全球唯一可量产供应。

# 关键规格
LPP 方案，曝光功率自首代 NXE3100 的约 10W 提升至 250W+；另有 ArF/KrF DUV 准分子激光光源。

# AI产业链角色
先进制程光刻的「光源中的光源」：EUV 光源是 ASML EUV 光刻机的核心壁垒，间接支撑全部先进制程 AI 芯片制造。

# 其他说明
基本仅供 ASML；上游光刻气（如凯美特气供应商名单）暂无库内对应落点（上游待补）。

# 产品细分清单
- EUV 光源（LPP，13.5nm）
- ArF/KrF DUV 准分子激光光源

### 上游产品

- [凯美特气-光刻气](凯美特气-光刻气.md)：凯美特气光刻气 2023 年通过 ASML 子公司 Cymer 认证、列入合格供应商名单（新浪财经/半导体芯科技）

### 下游产品

- [ASML-EUV光刻设备](ASML-EUV光刻设备.md)：Cymer 为 ASML 子公司，是 ASML EUV 光刻机光源系统的唯一供应商，基本仅供 ASML（新浪科技/OFweek）
