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年销售额占比: 25%
预计出货量: 约 60 台套（随 ASML EUV 出货量，预计）
单价: 不单独对外销售（占 ASML EUV 整机价值量约 24%）
segment: 光刻设备零部件
上游到底: 是
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# 产品介绍

> 如果把 EUV 光刻机比作一台「用光雕刻芯片」的相机，那么蔡司 EUV 光学系统就是这台相机的镜头——而且是全球唯一能做这个镜头的厂商。EUV 光的波长仅 13.5nm，无法穿透任何玻璃，因此蔡司打造了一套由多面高精度反射镜组成的全反射光学系统，将光源投射到硅晶圆上，刻画出纳米级的电路图案。这些反射镜的平整度达到原子级别，如果把它放大到德国国土面积，其表面起伏不超过 1 毫米。

# 关键规格

| 指标       | 参数                                             |
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| 光学系统组成   | 照明系统（Illumination）+ 投影物镜（Projection Objective） |
| 反射镜数量    | 6 面反射镜（Low-NA / High-NA EUV）                   |
| 数值孔径（NA） | 0.33（Low-NA）；0.55（High-NA）；研发中 0.75（Hyper-NA）  |
| 反射镜面形精度  | 峰谷值 ≤ 120pm（皮米，10⁻¹²m）                         |
| 表面粗糙度    | ≤ 20pm                                         |
| 反射率      | 约 71%（Mo/Si 多层膜）                               |
| 反射镜尺寸    | 直径可达 1 米以上（High-NA）                            |
| 工作方式     | 真空环境全反射（EUV 光会被空气吸收）                           |
| 光源波长     | 13.5nm（匹配 ASML EUV 光源）                         |

# AI产业链角色

> 蔡司 EUV 光学系统是 AI 算力产业链的**「隐形的根节点」**——它不直接面向终端客户，但没有它，ASML 的 EUV 光刻机就无法工作，先进制程 AI 芯片也就无法量产。

- **不可替代性**：全球唯一具备 EUV 投影物镜产业化能力的供应商。EUV 光刻机的光学系统需要在原子级别控制反射镜的面形精度和粗糙度，这是目前工业制造精度的极限，无第二家可达。
- **嵌套式垄断中的核心一环**：ASML 整机 → 蔡司光学 + Cymer 光源 → 共同构成 EUV 的「卡脖子」闭环。蔡司是这闭环中最上游、技术壁垒最深的一环。
- **需求放大器**：每一台 ASML EUV 光刻机的出货，都对应一套蔡司 EUV 光学系统。ASML 2025 年 EUV 销售额同比增长 39%，直接带动蔡司半导体制造技术板块增长 23%。
- **价值集中度**：光学系统占 ASML EUV 光刻机 BOM 成本约 24%，是整机中价值量最高的单一子系统。

# 其他说明

- **销售模式**：EUV 光学系统不单独对外销售，作为 ASML EUV 光刻机的核心子系统配套交付。ASML 于 2016/2017 年以约 10 亿欧元收购蔡司 SMT 24.9% 股份，以锁定供应。
- **产能瓶颈**：蔡司 SMT 的产能曾是 ASML EUV 光刻机扩产的主要瓶颈之一。ASML 于 2024 年投资约 1 亿欧元帮助蔡司扩大 EUV 反射镜产能。
- **技术演进**：从 0.33 NA 到 0.55 NA（High-NA），反射镜数量、尺寸和精度要求均大幅提升。下一代 0.75 NA（Hyper-NA）需要制造更大直径、更高精度的反射镜，研发难度呈指数级增长。
- **竞争格局**：EUV 光学领域无竞争对手。DUV 透镜领域 Nikon、Canon 具备能力，但 EUV 反射镜的全球产业化能力仅蔡司一家。
- **上游供应**：EUV 光学系统的上游为超高纯原材料（钼、硅靶材）、超精密加工设备（离子束抛光机）、超精密测量设备（干涉仪）等，目前主要由蔡司内部垂直整合或欧洲/日本供应商提供。

# 产品细分清单

蔡司 EUV 光学系统按技术代际划分：

| 分类 | 对应光刻机 | 数值孔径 | 反射镜数量 | 支持制程 | 说明 |
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| Low-NA EUV 光学 | NXE:3400C / NXE:3600D / NXE:3800E | 0.33 | 6 面 | 7nm / 5nm / 3nm | 当前量产主力 |
| High-NA EUV 光学 | EXE:5200B | 0.55 | 6 面 | 2nm 及以下 | 2025 年随 EXE:5200B 首台出货 |
| Hyper-NA EUV 光学（研发中） | 未来机型 | 0.75 | — | 1nm 以下 | 2030 年代目标，与 ASML 联合研发 |

### 上游产品

（已到最上游原材料/源头）

### 下游产品

- [ASML-EUV光刻设备](ASML-EUV光刻设备.md)：蔡司（Carl Zeiss）自1980年代起即为ASML所有光刻机供应光学系统，EUV光刻机使用蔡司制造的超精密多层镀膜反射镜组，ASML官网明确将蔡司列为EUV光学的战略合作伙伴（ASML官网《Making EUV: from lab to fab》）。
- [KLA-检测设备](KLA-检测设备.md)：KLA-Tencor与Carl Zeiss Microelectronic Systems建立光掩模检测领域战略联盟，联合开发互联检测系统（EE Times报道），蔡司光学系统在KLA高端光学检测设备中具有供应关系。
