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年销售额占比: 半导体真空泵占Edwards总营收约70%-80%
单价: 干式真空泵约5万-30万美元/台，涡轮分子泵约2万-10万美元/台
segment: 半导体设备零部件
上游到底: 是
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# 产品介绍
Edwards的半导体真空泵产品线涵盖干式真空泵（Dry Pump）、涡轮分子泵（Turbo Molecular Pump, TMP）和尾气处理系统（Abatement System），是半导体制造设备的核心零部件。每一台光刻机、刻蚀机、CVD设备都需要真空泵来维持超高真空环境（10^-3至10^-9 mbar），真空泵的性能直接决定芯片制造的良率和效率。

# 关键规格
- **iXH系列干式真空泵**：抽速100-6000 m³/h，极限真空<0.1 mbar，用于刻蚀和沉积工艺；
- **nXR系列涡轮分子泵**：抽速300-4500 L/s，极限真空<10^-9 mbar，用于EUV光刻机和离子注入；
- **iGP系列干泵**：抽速50-1600 m³/h，用于CVD/ALD工艺；
- **Atlas尾气处理系统**：处理量50-5000 Nm³/h，处理效率>99.9%。

# AI产业链角色
真空泵处于AI算力产业链的**半导体设备零部件层**，是光刻机、刻蚀机、沉积设备等核心半导体设备的必要配套。Edwards的真空泵向上采购特种钢材、精密轴承、密封件等原材料，向下供应给ASML（EUV光刻机）、应用材料（沉积/刻蚀设备）、泛林（刻蚀设备）以及台积电、三星等晶圆厂的工艺设备。

# 其他说明
- 全球半导体真空泵市占率约40%，绝对龙头；
- ASML EUV光刻机的标准真空泵供应商；
- 台积电、三星、英特尔、中芯国际等晶圆厂的长期供应商；
- 每一台EUV光刻机需要多台涡轮分子泵串联使用；
- 中国厂商汉钟精机正在加速国产替代，但高端产品仍有差距。

### 上游产品

（已到最上游原材料/源头）

### 下游产品

- [ASML-EUV光刻设备](ASML-EUV光刻设备.md)：EUV曝光须在10⁻⁶ Torr高真空中进行，Edwards Vacuum为ASML EUV设备专属真空泵及废气处理系统供应商，提供EUV Ezenith系列真空解决方案（Edwards Vacuum官网EUV专页；Semiconductor Digest技术分析）。
- [中微公司-刻蚀设备](中微公司-刻蚀设备.md)：Edwards Vacuum是全球半导体设备真空泵的头部供应商，刻蚀设备的工艺腔体需要高性能真空泵，中微公司刻蚀设备的700余家供应商中含多家进口零部件厂商，Edwards真空泵为刻蚀设备标配零部件（产业配套推断，来源：新浪财经《半导体设备真空泵国产化》，2021年）。
- [北方华创-半导体设备](北方华创-半导体设备.md)：Edwards是全球真空泵赛道头部供应商，半导体设备（刻蚀/CVD等）普遍配套Edwards真空泵，北方华创等国内设备厂在国产替代前大量采购Edwards真空泵（产业配套推断，来源：天风电子半导体设备零部件深度报告，2022年）。
- [应用材料-沉积与刻蚀设备](应用材料-沉积与刻蚀设备.md)：Edwards（阿特拉斯·科普柯旗下）是半导体设备真空泵龙头，应用材料刻蚀/沉积设备广泛配套Edwards干式/液环真空泵，两者均为全球半导体制造核心设备供应链成员（据Edwards官网及半导体零部件行业深度报告）。
- [泛林-刻蚀设备](泛林-刻蚀设备.md)：半导体设备零部件行业报告（2022年）明确，Edwards是国际领先真空泵企业之一，广泛应用于刻蚀、成膜等半导体制造环节，是泛林等刻蚀设备厂的核心零部件供应商，属半导体设备产业链公开的供应关系。
